亨利娱乐与硅钼棒的区别

点击次数:   更新时间:16/11/29 09:54:11     来源:www.sdzpaoxiang.com关闭分    享:
  亨利娱乐发热体与碳化硅相同,常温下化学性能非常稳定,耐酸、碱侵蚀。但在高温下使用时,它与气氛中的氧、水蒸气、氢、氮、气体,以及碱类物质可发生反应,与碳化硅发热体的寿命有关的化学性能。碳化硅发热体的一般物理性能,其中主要的性能是电阻率,它随着温度变化,呈杂质型半导体的特性。在500-600度时亨利娱乐发热体的电阻率低;从室温至500度,电阻与温度呈负态特性变化;在此温度范围以上,电阻与温度则呈正特性变化。碳化硅发热体一般在800C以上使用,正好处于正特性变化范围,因而温度容易控制调节。
  碳化硅发热体与水蒸气的反应碳化硅发热体可在较低的温度下与水蒸气发生,硅钼棒发热体的形状主要有U形、W型,这主要是由于硅钼棒烧结制品在高温下的热塑性较大,以避免棒形制品水平放置时在自重作用下的变形和便于克服温热膨胀。非发热端部加粗,以增大断面面积使电阻降低。
  硅钼棒发热体的制造工艺过程。主要原料:硅化钼是以金属Mo和Si在高温下熔融合成的,一般采用挤压法分别成型中部的发热段与端部的非发热段。然后在非氧化气氛中,例如在氢气中高温烧结。烧结后将中部发热段与端部非发热段高温焊接一起。对端部喷镀金属铝成为接线端。
  在温度为950度以上的氧化气氛中,硅化钼发热体表靣发生氧化,生成连续的石英玻璃质薄膜保护层,并与发热体的表面牢固结合,从而可防止发热体受到进一步的氧化。
  我们在进行使用时,大家应当注意,凡能与这层Si〇2薄膜发生反应的气体,如氢气等,都能破坏Si〇2保护层。应当注意的是氢气中的水分含量对硅化钼发热体的使用温度有很大的影晌,硅钼棒在真空高温下会发生升华,真空度越高,硅化钼发热的高使用温度越低。

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